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    浙江奥首材料科技申请涂布工艺通用型等离子体切割保护液专利 可获得均匀致密的保护膜层:离子膜烧碱

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    金融界2025年8月8日消息,国家知识产权局信息显示,浙江奥首材料科技有限公司申请一项名为“一种涂布工艺通用型等离子体切割保护液、其制备方法及应用”的专利,公开号CN120442138A,申请日期为2

    2025-10-15
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