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江苏神州半导体申请提升远程等离子源腔体氧化膜稳定性方法专利,提升RPS腔体的使用寿命:离子膜烧碱
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金融界2025年7月25日消息,国家知识产权局信息显示,江苏神州半导体科技有限公司申请一项名为“一种远程等离子源腔体氧化膜稳定性提升方法”的专利,公开号CN120376394A,申请日期为2025年0
2025-10-15
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